软X射线投影光刻的关键技术

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1.多层膜反射镜是投影光刻得以实现的前提.必须解决多层膜的高反射率、带宽匹配、应力,曲面基板上膜厚随入射角变化而变化等关键问题.目前,Mo/Be和Mo/Si多层膜在11~14mm波段得到了接近70%的反射率。2.光学元件超精密加工与检测是投影光刻得以实现的另一大基础。软X射 1. Multi-layer mirrors are the premise of projection lithography. Multi-layer film must be addressed high reflectivity, bandwidth matching, stress, surface thickness of the substrate with the angle of incidence changes and other key issues. At present, Mo / Be and Mo / Si multilayers achieve near 70% reflectance in the 11-14 mm band. 2. Ultra-precision optical components processing and testing is another important projection lithography can be achieved. Soft X-ray
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