【摘 要】
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我们研制了操作在5kV至60kV的微焦点X光光源,它可以满足高分辨率投影成像的需要。通过采用单极靴磁透镜来进行电子束聚焦,得到了5μm至10μm的光点尺寸。此光源操作方便,可应
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我们研制了操作在5kV至60kV的微焦点X光光源,它可以满足高分辨率投影成像的需要。通过采用单极靴磁透镜来进行电子束聚焦,得到了5μm至10μm的光点尺寸。此光源操作方便,可应用在工业,生物、医学等领域。
We developed a microfocus x-ray source operating at 5kV to 60kV that meets the needs of high-resolution projection imaging. By using a monopole magnetic lens to focus the electron beam, a spot size of 5 μm to 10 μm was obtained. This light source easy to operate, can be used in industrial, biological, medical and other fields.
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