【摘 要】
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通过对导电的铝镁合金膜、不导电的Ti○_2一Ta_2○_5介质膜和半导体ZnSe光学膜层成份直接分析,提出了三种光学薄膜光谱标样制备的新方法。在考察测定系统误差和放电机制之后,
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通过对导电的铝镁合金膜、不导电的Ti○_2一Ta_2○_5介质膜和半导体ZnSe光学膜层成份直接分析,提出了三种光学薄膜光谱标样制备的新方法。在考察测定系统误差和放电机制之后,提出了光学薄膜成份分析和一般光谱分析对标样不同要求的三点新看法。
Through the direct analysis of the conductive aluminum-magnesium alloy film, non-conductive Ti ○ _2 Ta_2 ○ _5 dielectric film and the semiconductor ZnSe optical film layer composition, three new methods of optical film spectral standards were proposed. After examining the measurement of system error and discharge mechanism, three new ideas about the different requirements of standard samples for optical film composition analysis and general spectral analysis were put forward.
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