BOC EDWARDS推出用于半导体工艺尾气处理的解决方案HELIOS 6~(TM)

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全球半导体OEM和FAB代工厂家主要真空、尾气处理、化学管理设备和服务的供应商BOC EDWARDS宣布推出HELIOS6TM尾气处理设备。作为HE-LIOSTM尾气处理设备产品线中的最新产品,该装置可用于高流量氢工艺,如硅和锗硅外延、LPCVD钨和化合物半导体MOCVD。Helios6尾气处理设备基于BOC E BOC EDWARDS, a leading supplier of vacuum, exhaust gas and chemical management equipment and services to the global semiconductor OEM and FAB OEMs, announces the launch of the HELIOS 6 ™ exhaust gas treatment plant. The latest addition to the HE-LIOSTM exhaust gas treatment equipment product line, the unit can be used in high-flow hydrogen processes such as Si and Si epitaxy, LPCVD tungsten and compound semiconductor MOCVD. Helios6 exhaust treatment equipment is based on BOC E
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