金属铋在真空蒸发过程中临界压强的研究

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本文通过对铋在不同温度(973-1273K)和残压(1.013×10^5 ̄1.33×10^-1Pa)条件下蒸发速度的测定,证实了金属2铋在蒸发过程中存在着临界压强。当系统残压小于铋的临界压强时,出现压强继续降低不再提高铋的蒸发速率的情况,进而得出铋的临界压强与温度之间的关系,用回归方程描述:logPc=7.0930-6.5338×10^3/T。当系统残压大于临界压强时,铋的蒸发由扩散过程控制,当系
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