【摘 要】
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采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了类金刚石（DLC）膜。用光学显微镜、椭偏仪、Raman光谱、X射线光电子能谱（XPS）、X射线衍射能谱（XRD）、纳
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采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了类金刚石（DLC）膜。用光学显微镜、椭偏仪、Raman光谱、X射线光电子能谱（XPS）、X射线衍射能谱（XRD）、纳米硬度计、摩擦磨损仪、洛氏硬度计检测了薄膜的组分、结构、光学、力学等相关特性。结果表明，膜中均存在着微米级的大颗粒分布。硅片上的薄膜厚度均为37nm左右，75V、100V偏压下制得的薄膜具有最高的sp^3键含量，薄膜具有典型的DLC膜Raman光谱特征。玻片上的DLC膜具有良好的红外透射性能。不锈钢片上的薄膜为非晶碳结构
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