新型光记录材料以及制作工艺

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日本研制出一种光记录材料,主要成分为:碲(Te)、碳(c)、硫(S)和氢。将这种材料沉淀在一种基片上形成光记录层,就可以用于制做激光记录盘。光记录层的制造方法如下:用碲靶在循环的硫醚气体或硫醚气和惰性气体的混合气中用溅射方法沉积在基片上。沉积层的厚度为100埃(A)至1微 Japan developed an optical recording material, the main components: tellurium (Te), carbon (c), sulfur (S) and hydrogen. By depositing this material on a substrate to form an optical recording layer, it can be used to make laser recording discs. The optical recording layer is manufactured by depositing a tellurium target on a substrate by a sputtering method in a circulating thioether gas or a mixture of a thioether gas and an inert gas. The thickness of the deposited layer is 100 angstroms (A) to 1 micrometer
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