扩散阻挡层与离子束轰击能量对Cu-Cr合金膜结合强度的影响

来源 :中国真空学会薄膜技术学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：greenplastic

【摘要】

：

用离子束辅助磁控溅射和离子束溅射共沉积的方法分别在TiN、CrN扩散阻挡层上沉积了Cu-Cr合金膜.用滚动接触疲劳实验评价结合强度,结果发现:扩散阻挡层可明显提高结合强度;CrN上的Cu-Cr膜的结合强度最高;高能离子轰击得到的Cu-Cr合金膜具有更宽的过渡层而具有更高的结合强度.

【作者】

：

宋忠孝鞠新华徐可为范多旺

【机构】

：

西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室(西安) 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室(西安)

【出处】

：

中国真空学会薄膜技术学术研讨会

【发表日期】

：

2003年11期

【关键词】

：

扩散阻挡层 Cu-Cr合金膜离子束辅助沉积铜铬合金膜

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