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在低真空下，用射频反应溅射法在硅片和硅太阳电池上制备理想配比的非晶Ｔａ２Ｏ５减反射薄膜。测定表明，其减反射性能良好。
低真空射频反应溅射Ta2O5减反射薄膜及其光伏应用
【摘 要】
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在低真空下，用射频反应溅射法在硅片和硅太阳电池上制备理想配比的非晶Ｔａ２Ｏ５减反射薄膜。测定表明，其减反射性能良好。
【机 构】
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云南师范大学太阳能研究所
【出 处】
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太阳能学报
【发表日期】
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1998年3期
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