【摘 要】
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采用电弧离子镀技术在不同直流偏压下沉积Al-Cr-Si-N涂层,研究基体偏压对涂层成分、微观结构和性能的影响。结果表明：Al-Cr-Si-N涂层以密排六方结构和面心立方结构的AlN相为主
【机 构】
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天津职业技术师范大学天津市高速切削与精密加工重点实验室,中国科学院金属研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（51301181）, 天津市应用基础与前沿技术研究计划重点项目（15JCZDJC39700）, 天津市科技特派员项目（16JCTPJC49500）, 天津市高等学校创新团队培养计划项目（TD13-5096）
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采用电弧离子镀技术在不同直流偏压下沉积Al-Cr-Si-N涂层,研究基体偏压对涂层成分、微观结构和性能的影响。结果表明：Al-Cr-Si-N涂层以密排六方结构和面心立方结构的AlN相为主,随着基体负偏压增加,涂层的衍射峰整体向小角度方向偏移：涂层内残余压应力逐渐增加,最大值为-0.77 GPa;涂层硬度和摩擦系数变化不明显。当基体负偏压为-40V时,Al-Cr-Si-N涂层的特征参数H/E和H~3/E~（＊2）均达最大值,分别为0.15和0.37GPa,此时涂层具有最佳的耐磨性能,摩擦系数亦最低。
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