【摘 要】
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采用等离子体源渗氮技术在AISI 304L奥氏体不锈钢表面制备高氮面心结构的γN相层.利用AES和XPS分析了γN相层在pH值为8.4的硼酸溶液中钝化膜的化学组成,借助Mott-Schottky方
【机 构】
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营口理工学院机电工程系 营口115014;大连理工大学材料科学与工程学院 大连116024
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采用等离子体源渗氮技术在AISI 304L奥氏体不锈钢表面制备高氮面心结构的γN相层.利用AES和XPS分析了γN相层在pH值为8.4的硼酸溶液中钝化膜的化学组成,借助Mott-Schottky方程分析了γN相层钝化膜的半导体特性.结果表明:γN相层钝化膜具有双层结构,外层由Fe、Cr氢氧化物和氧化物构成,呈现出n型半导体特性;内层主要以Cr2O3为主,呈现出p型半导体特性,并且N以FeNx和CrNx形式存在于钝化膜内.与原始不锈钢钝化膜相比,γN相层钝化膜内施主浓度和受主浓度更低,平带电位负移,说明其钝化膜致密性更好,腐蚀速率更低.
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