面接触磁流变抛光中“彗尾”现象的分析

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针对面接触磁流变抛光中产生的“彗尾”划痕产生原因和解决方式进行了探讨.通过对面接触磁流变抛光材料去除量公式的研究,分析出“彗尾”现象的产生是工件各点在闭合环带磁场内所处的磁场强度不停的变化所引起.以理论推导为依据,进行了工艺实验,实验结果表明“彗尾”划痕的产生受到工件与抛光头之间的相对速度、磁场强度和工件初始破坏层深度等因素的影响.最后通过组合实验的方式,解决了面接触磁流变抛光中存在的“彗尾”现象,使得工件表面粗糙度值降低到Ra 0.56nm.
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