【摘 要】
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针对氧化镓衬底基片的化学机械抛光（CMP）进行了研究.介绍了氧化镓衬底基片的化学机械抛光工艺,讨论了影响抛光结果的因素：pH值、温度、压力、磨粒.通过大量的实验,最终确定了优
【机 构】
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盐城工学院,江苏大学,安徽理工大学
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针对氧化镓衬底基片的化学机械抛光（CMP）进行了研究.介绍了氧化镓衬底基片的化学机械抛光工艺,讨论了影响抛光结果的因素：pH值、温度、压力、磨粒.通过大量的实验,最终确定了优化方案.提出先以粗抛光去除研磨后产生的划痕、凹坑等表面缺陷,再以精抛光降低表面粗糙度并获得高光洁衬底基片的方案.研究结果表明：在27℃抛光温度,9.0≤pH≤11的条件下,使用粒径为40nm,低分散度的SiO2溶胶磨粒,并加入适量添加剂,配合合理的工艺参数,可以获得具有良好表面质量的氧化镓衬底基片及较高的抛光去除率.
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