【摘 要】
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以Ar为输送气体,H2S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si(100)和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H2S流量对MoSx自润滑涂层
【机 构】
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广州铁路职业技术学院机械与电子学院,武汉大学加速器实验室,华南理工大学机械与汽车工程学院
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(11405117),广东省高等学校优秀青年教师培养项目(YQ2015208),广州铁路职业技术学院校级项目(10000253,30000261,30000263)
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以Ar为输送气体,H2S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si(100)和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H2S流量对MoSx自润滑涂层结构及性能的影响,为电弧离子镀技术制备MoSx自润滑涂层积累实验数据。结果表明,H2S流量对MoSx自润滑涂层的晶体结构、硬度及摩擦因数具有明显影响。随H2S流量升高,MoSx自润滑涂层中Mo晶粒尺寸逐渐减小,没有明显的硫化物结晶相,MoSx涂层硬度逐渐减小,摩擦因数也逐渐减小,且均小于0.35(对磨材料硬质合金)。
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