形成优质Si^＋注入SI—GaAs层的研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：BFM_99

【摘要】

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在ＧａＡｓ集成电路研制中需要高电激活率，高迁率的ｎ型薄层，本文研究了Ｓｉ＾＋注入ＧａＡｓ形成的ｎ型层光电特性与材料参量，注入和退火条件的关系，结果表明材料生长中的杂质污染和缺陷对注入层电特性有直接

【作者】

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李国辉韩德俊陈如意姬成周王策寰夏德谦朱红清

【机构】

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北京师范大学低能核物理所,中国科学院半导体研究所材料开放实验室,视电部55所

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1994年1期

【关键词】

：

砷化镓集成电路离子注入

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在ＧａＡｓ集成电路研制中需要高电激活率，高迁率的ｎ型薄层，本文研究了Ｓｉ＾＋注入ＧａＡｓ形成的ｎ型层光电特性与材料参量，注入和退火条件的关系，结果表明材料生长中的杂质污染和缺陷对注入层电特性有直接影响。材料或退火过程中Ａｓ和Ｇａ的原子比［Ａｓ］／［Ｇａ］稍大时，注入层中电激活率和迁移率都高。实验还证明，＾２９Ｓｉ＾＋注入时ＢＦ＾＋束流的影响会使注入层电激活率和迁移率下降，本文指出注入时剂量不宜过大

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