【摘 要】
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采用分子动力学方法模拟不同能量的C+离子与聚变材料钨的相互作用.模拟结果表明:当C+离子入射剂量为3.11×1016 cm-2,入射能量为50eV时,样品表面形成一层碳膜；而入射离子能量
【机 构】
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四川大学原子核科学技术研究所 成都610064贵州大学理学院 贵阳550025;四川大学材料科学与工程学院 成都610064;核工业西南物理研究院 成都610041;
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采用分子动力学方法模拟不同能量的C+离子与聚变材料钨的相互作用.模拟结果表明:当C+离子入射剂量为3.11×1016 cm-2,入射能量为50eV时,样品表面形成一层碳膜；而入射离子能量为150和250eV时,C+离子入射到样品内与钨原子共同形成碳钨混合层,样品表面没有形成碳膜；碳的沉积率随能量的增大先减小后增加,溅射率随能量的增大先增大后减小；轰击后的样品中,碳原子密度、C-W键密度及C-C键密度分布都随能量的增加逐渐向样品内移动,且C-W键分布厚度随能量的增加而逐渐增加,C-C键分布厚度几乎不随能量变化；在作用过程中极少量的钨原子发生溅射,但引起钨品格损伤严重；碳在轰击后的样品中主要以Csp3杂化形式存在.
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