390.60nm激光作用下Si(CH3)4的多光子解离与硅原子的(1+1)电离

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在390.60nm的紫外激光作用下,利用超声分子束技术与飞行时间(TOF)质谱仪相结合的方法研究了气相四甲基硅分子多光子电离(MPI)的TOF质谱,在较低能量的激光作用下主要检测到了Si(CH3)^+、Si^+、C2^+等离子的信号,有时甚至只检测到了Si^+离子的信号:在较高能量的激光作用下主要检测到Si(CH3)^+n(n=1,2,3,4)、Si^+、C2^+甚至还有SiC3^+,SiC2^+等离子的信号。据此并结合以前得到的结论,讨论了四甲基硅分子可能的MPI过程。得出了Si^+主要来自于Si(CH
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