AZ31镁合金表面磁控溅射SiNx薄膜的性能研究

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采用磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了SiNX薄膜。用场发射扫描电镜、X射线衍射、X光电子能谱等研究分析了薄膜的晶体结构、表面形貌和化学成分。实验结果表明,所制备的SiNx薄膜为非晶态的富N膜;SiNx薄膜可显著降低AZ31在3.5%的NaCl溶液中的腐蚀电流密度,膜厚为1.5μm时,在阳极极化区出现钝化现象。
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