【摘 要】
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在交流条件下利用微等离子体氧化技术合成了氧化铝陶瓷涂层.XRD分析结果显示,涂层中α-Al2O3相与γ-Al2O3相的含量随反应时间而变化.氧化2.5 h后可以得到由单一的α-Al2O3相
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在交流条件下利用微等离子体氧化技术合成了氧化铝陶瓷涂层.XRD分析结果显示,涂层中α-Al2O3相与γ-Al2O3相的含量随反应时间而变化.氧化2.5 h后可以得到由单一的α-Al2O3相组成的涂层.陶瓷涂层厚度的生长速率大约为0.7μm/min;在135 min之后,涂层的厚度基本不变.氧化最初的15 min之内,涂层的表面密度仅为0.088 mg/cm2,然后表面密度增大.在氧化15 min～60 min之内,表面密度(y)与氧化时间呈直线关系.在氧化60 min之后,y的增长速率逐渐减小.
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