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近年来，国内外SiC薄膜材料制备工艺研究迅速发展，由此带来SiC薄膜性能方面的研究也获得长足的进步，新技术、新工艺、新性能不断涌现。溅射SiC技术相对于其它沉积技术（CVD、PIP等）有许多独特的优点：沉积温度低、结合性和致密性好、表面平整、硬度高、光电性能优异以及工艺安全环保等，因此越来越受到重视，且已经成为沉积高性能SiC薄膜的重要技术方法。主要论述了几种不同溅射技术，着重介绍了溅射技术在SiC薄膜制备中的研究进展及SiC薄膜性能方面的研究进展和应用，并且展望了溅射技术制备SiC薄膜的发展前景和当前热