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期刊论文
热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响
热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响
来源 :磁记录材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sccd920141
【摘 要】
:
本文用磁控溅射法制备了厚度20-200nm的NiFe合金薄膜。研究了热处理温度对NiFe薄膜电阻、各向异性磁电阻比和软磁性能的影响。适当温度下的热处理可以减小NiFe薄膜的电阻、增大其各向异性磁电阻比
【作 者】
:
郑鹉
高居里
王艾玲
阎明朗
【机 构】
:
首都师范大学,中国科学院物理研究所
【出 处】
:
磁记录材料
【发表日期】
:
1995年4期
【关键词】
:
热处理
温度
薄膜磁电阻
磁电阻
带基
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本文用磁控溅射法制备了厚度20-200nm的NiFe合金薄膜。研究了热处理温度对NiFe薄膜电阻、各向异性磁电阻比和软磁性能的影响。适当温度下的热处理可以减小NiFe薄膜的电阻、增大其各向异性磁电阻比,从而制备出性能较好的薄膜磁性材料。
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