【摘 要】
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利用扫描隧道显微技术(STM)和X-射线光电子能谱(XPS)技术,研究了Si (111)在几种不同比例的NH4F-HCl溶液中被腐蚀后的表面形态及洁净度.通过分析表面的STM图像与XPS谱图,表明
【机 构】
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厦门大学萨本栋微机电研究中心,新加坡国立大学材料与工程研究所,新加坡国立大学化学系
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利用扫描隧道显微技术(STM)和X-射线光电子能谱(XPS)技术,研究了Si (111)在几种不同比例的NH4F-HCl溶液中被腐蚀后的表面形态及洁净度.通过分析表面的STM图像与XPS谱图,表明在较高pH值的NH4F-HCl溶液中被腐蚀的Si (111)表面粗糙度较小,且表面洁净度及化学稳定性较好.
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