【摘 要】
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本文介绍了采用热喷涂法制备以 NiO 为主体成分的薄膜材料,并根据其性能制作热敏电阻.用5DX—FT—IR 测定了不同工艺条件制备的薄膜样品的红外吸收光谱.用差热分析方法测量了
【机 构】
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吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系,吉林大学电子科学系,
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本文介绍了采用热喷涂法制备以 NiO 为主体成分的薄膜材料,并根据其性能制作热敏电阻.用5DX—FT—IR 测定了不同工艺条件制备的薄膜样品的红外吸收光谱.用差热分析方法测量了样品的温度稳定性。结果表明,这种方法制得的氧化镍薄膜热敏电阻在0～200℃的温区内。具有较好的线性特性。
In this paper, the preparation of thin film materials with NiO as the main component by thermal spraying method and thermistors based on their properties were described.The infrared absorption spectra of the films prepared by different process conditions were measured by 5DX-FT-IR.The results of differential thermal analysis The method measures the temperature stability of the sample. The results show that the nickel oxide thin film thermistor prepared by this method is in the temperature range of 0 ~ 200 ℃. Has good linearity.
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