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用氢氟酸硝酸水溶液对硅单晶抛光片进行染色腐蚀，制备了多孔硅，本文研究染色腐蚀多孔光致可见光发光特性，特别是激发光强度和波长与发射光强度与波长的关系，多孔硅的稳定性和响应特性。
染色腐蚀多孔硅的光致可见光发光特性
【摘 要】
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用氢氟酸硝酸水溶液对硅单晶抛光片进行染色腐蚀，制备了多孔硅，本文研究染色腐蚀多孔光致可见光发光特性，特别是激发光强度和波长与发射光强度与波长的关系，多孔硅的稳定性和响应
【机 构】
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中国科学院半导体研究所
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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1994年10期
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