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理论强度公式在X—射线荧光光谱分析中的应用
理论强度公式在X—射线荧光光谱分析中的应用
来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kkkjnc
【摘 要】
:
介绍理论强度公式的应用:计算基体效应,估算三次荧光;标准样品数据及实验条件的检验;预测标样的适用性;稀释率的确定.
【作 者】
:
王桂华
谭秉和
【机 构】
:
北京科技大学化学系
【出 处】
:
光谱学与光谱分析
【发表日期】
:
2002年2期
【关键词】
:
理论强度公式
X-射线荧光光谱分析
应用
基体效应
标样预测
玻璃熔片
稀释率
X-ray fluorescence
theoretical intensit
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介绍理论强度公式的应用:计算基体效应,估算三次荧光;标准样品数据及实验条件的检验;预测标样的适用性;稀释率的确定.
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