C对Gd5Si4磁致冷材料结构和性能的影响

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【摘要】

：

以商业蒸馏Gd为原料，采用非自耗电弧炉在氩气保护下熔炼了Gd5Si4Cx（x=0、0．24、0．35、0．5）系列合金，研究了C对Gd5Si4磁致冷合金组织结构与磁热性能的影响。粉末XRD结果表明，Gd5Si4Cx

【作者】

：

杜会军陈云贵张铁邦唐永柏

【机构】

：

四川大学材料科学与工程学院

【出处】

：

功能材料

【发表日期】

：

2008年3期

【关键词】

：

磁制冷材料磁热效应组织结构居里温度磁熵变 magnetic refrigation material magnetacaloric magnetic e

【基金项目】

：

国家高技术研究发展计划（863计划）资助项目（2002AA324010）

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以商业蒸馏Gd为原料，采用非自耗电弧炉在氩气保护下熔炼了Gd5Si4Cx（x=0、0．24、0．35、0．5）系列合金，研究了C对Gd5Si4磁致冷合金组织结构与磁热性能的影响。粉末XRD结果表明，Gd5Si4Cx系列合金主相均为正交的Gd5Si4型结构，此外C（x=0．24、0．35、0．5）加入后合金中出现了少量的GdSi相。利用振动样品磁强计测量的合金的磁性能的结果表明，Gd5Si4Cx（x=0、0．24、0．35、0．5）系列舍金的居里温度Tc在344～297K连续可调。在1．5T外加磁场变化时居

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