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ZnO纳米结构薄膜的三阶非线性折射特性

来源 :光电子·激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户：RubbishHP

【摘要】

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采用直流溅射法在石英基片上制备了ZnO纳米结构薄膜.X射线衍射(XRD)谱表明ZnO尺寸约为5 nm.利用Z-扫描技术,以锁模Nd:YAG激光器作光源(脉宽35 ps,波长为355 nm),在共振区域测

【作者】

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熊瑛汤国庆张桂兰杨保和陈希明

【机构】

：

南开大学现代光学研究所,天津理工学院光电信息与电子工程系

【出处】

：

光电子·激光

【发表日期】

：

2004年11期

【关键词】

：

三阶非线性 Z-扫描共振区折射常数直流溅射法薄膜 ND:YAG激光器锁模脉宽 Film growthLight transmissionMagne

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采用直流溅射法在石英基片上制备了ZnO纳米结构薄膜.X射线衍射(XRD)谱表明ZnO尺寸约为5 nm.利用Z-扫描技术,以锁模Nd:YAG激光器作光源(脉宽35 ps,波长为355 nm),在共振区域测定了ZnO纳米薄膜的三阶非线性光学常数,其非线性光学折射率常数n2=-5.7×10-8 esu.

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