ECR—MOCVD方法GaN单晶薄膜生长热力学分析

来源 :高技术通讯 | 被引量 : 0次 | 上传用户：galatea

【摘要】

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基于热力学平衡和化学平衡理论,针对电子回旋共振金属有机化学气相沉积(ECR-MOCVD)系统生长GaN的特点,给出了化学平衡模型和理论分析结果 .计算得出了六方GaN的生长驱动力ΔP

【作者】

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王三胜顾彪徐茵

【机构】

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大连理工大学三束材料改性国家重点实验室

【出处】

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高技术通讯

【发表日期】

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2002年10期

【关键词】

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热力学分析生长相图 GaN单晶薄膜生长 ECR-MOCVD方法热力学平衡化学平衡理论氮化钙 GaN ECR-MOCVD Thermodynamic an

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基于热力学平衡和化学平衡理论,针对电子回旋共振金属有机化学气相沉积(ECR-MOCVD)系统生长GaN的特点,给出了化学平衡模型和理论分析结果 .计算得出了六方GaN的生长驱动力ΔP与生长条件(Ⅲ族源输入分压P0Ga 、Ⅴ/Ⅲ比、生长温度)的关系.发现在600～900℃内GaN沉积生长速率由Ⅲ族源气体的质量输运所控制.计算得到了六方GaN生长的决定因素和相图.理论计算和实验结果通过比较发现是吻合的.

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