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目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材。重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状，靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法，最后分析了存在的技术难点和需要解决的问题。
磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展
【摘 要】
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目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材。重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状，靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法，最后分析了存在的技术难点和
【机 构】
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昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室
【出 处】
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贵金属
【发表日期】
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2013年1期
【基金项目】
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国家科技部院所技术开发专项（2010EG215060）、云南省院所技术开发专项（2009CF003）、国家基金项目（U0837601）,南省基金项（2010CD126,2010ZC55）资助.
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