【摘 要】
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针对再生光栅在高温退火后存在较低反射率导致高温测量受限的问题,采用244nm氩离子激光制作两支栅区长度分别为10mm和25mm的种子光栅,使用超高温箱式炉对种子光栅进行900℃的
【机 构】
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北京信息科技大学光电信息与仪器北京市工程研究中心,现代测控技术教育部重点实验室,北京信息科技大学光电测试技术北京市重点实验室
【基金项目】
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北京市教委2015年度创新能力提升计划（TJSHG201510772016）, 北京市优秀人才培养资助项目（2015000020124G074）
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针对再生光栅在高温退火后存在较低反射率导致高温测量受限的问题,采用244nm氩离子激光制作两支栅区长度分别为10mm和25mm的种子光栅,使用超高温箱式炉对种子光栅进行900℃的快速高温退火处理。在擦除初始种子光栅后制备出高温再生光栅,并在200℃-900℃温度范围内对高温退火后的两支再生光栅的高温传感特性进行实验测试。结果表明:在900℃温度稳定环境中测试100min,10mm再生光栅中心波长的稳定度为4pm,反射率为19.03%;25mm再生光栅中心波长的稳定度为8pm,反射率高达84.13%;在200-900℃温度范围内,两支再生光栅温度线性度较好,相关系数均在0.998以上;温度灵敏度系数分别为15.23pm/℃和15.24pm/℃;栅区长度为25mm的再生光栅更适合用于制作高温传感器。
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