UV/Cl工艺对三氯生的去除与降解机理研究

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对UV/Cl高级氧化工艺降解水中广谱抗菌剂三氯生(TCS)进行研究,对比单一UV、单一Cl和UV/Cl工艺对TCS的去除效果.考察UV光强、余氯初始浓度、溶液pH 值和氨氮浓度等因素对反应的影响,探究TCS 在UV/Cl 工艺中的降解机理,评估其生态风险.结果表明,与单一UV、单一Cl 相比,TCS 在UV/Cl 工艺中降解效果较好,反应符合准一级反应动力学,降解速率常数随UV 光强、余氯初始浓度增大而增大,随NH4+-N 浓度的增加而减小.基于HRMS Q-TOF 解析出17 种中间产物,提出了降解反应
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