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文章详细介绍了有望成为下一代主流的光刻技术--纳米压印光刻技术.并概述了其应用,同时介绍了其在现阶段的发展状况.
纳米压印光刻技术及其发展现状
【摘 要】
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文章详细介绍了有望成为下一代主流的光刻技术--纳米压印光刻技术.并概述了其应用,同时介绍了其在现阶段的发展状况.
【机 构】
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中国电子科技集团公司第45研究所上海微高精密机械工程有限公司
【出 处】
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电子与封装
【发表日期】
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2005年12期
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