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采用JGP-450复合型高真空多靶磁控溅射设备，制备不同W含量的（V, W）N复合膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪及摩擦磨损仪分别对（V, W）N复合膜的显微结构、力学性能及摩擦性能进行表征。结果表明：（V, W）N复合膜主要由面心立方结构VN相和六方结构V2N相组成；（V, W）N复合膜的显微硬度呈先增大后减小的趋势，而摩擦因数与之相反，当W含量x（W）为26.67%时，（V, W）N复合膜显微硬度达到最大值25.1 GPa，同时平均摩擦因数达到最小值0.3238，并讨论了W含量对性能的影响机