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本文叙述了介质阻挡放电照相技术的基本原理，给出了自制的实验装置，并研究了不同曝光时间、不同放电回路电阻对照相质量的影响。在此基础上，提出在采用高压纳秒脉冲放电技术的前提下，综合控制曝光时间和放电回路电阻，是获得良好质量介质阻挡放电像的又一关键。
曝光量对介质阻挡放电照相的影响
【摘 要】
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本文叙述了介质阻挡放电照相技术的基本原理，给出了自制的实验装置，并研究了不同曝光时间、不同放电回路电阻对照相质量的影响。在此基础上，提出在采用高压纳秒脉冲放电技术的前
【机 构】
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西安交通大学,广东福地科技股份有限公司,上海永新彩色显象管有限公司
【出 处】
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高压电器
【发表日期】
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2001年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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