平行锚定和正交锚定液晶盒内胆甾相平面态液晶层指向矢排布随温度变化的特征

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为了研究胆甾相平面态液晶(Cholesteric liquid crystal with planar texture,CLCPT)层在上下表面取向平行(Parallel anchoring,PA)和上下表面取向垂直(Orthogonal anchoring,OA)两种液晶盒中指向矢排布随温度变化的特征,分别制备了PA和OA两种CLCPT液晶盒样品。构建了由梯形低折射率棱镜、匹配液、CLCPT液晶盒组成的全漏导模结构,采用全漏光学导波(Fully leaky optical guided wave,FLO
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金属有机骨架(MOFs)在可见光光催化方面具有重要的应用价值,但其通常受制于稳定性不佳和光生电荷复合率高的缺点。与无机半导体复合是提高MOFs活性的有效途径之一。本文以水热法制备NH2-UiO-66,在其表面包裹非晶态的TiO2层,制备出一种核壳结构的MOF@TiO2催化剂(NH2-UiO-66@TiO2),并考察了其在可见光下对甲苯的降解性能。实验结果表明其性能优于NH2-
该研究以模式物种(拟南芥、水稻、玉米)的MTP序列作为种子序列,对黄瓜MTP基因家族(CsMTP)成员进行了系统鉴定和分析;并以Zn2+、Cd2+、Mn2+、Cu2+、Fe2+和Mo2+处理后的黄瓜叶片和根系为材料,对CsMTP响应金属离子的表达模式进行了研究,为探究该基因家族对黄瓜重金属胁迫调控机制提供理论依据。结果表明:(1)黄瓜含有10个CsMTP,可进一步分为Fe/Z
二氢黄酮醇4-还原酶(DFR)作为花色苷代谢途径下游的关键酶,对植物花色苷的合成具有重要调控作用.该研究以日本蛇根草(Ophiorrhiza japonica)为材料,采用RT-PCR方法克隆获得一
为了筛选高密度且均匀分布于大麦各染色体的分子标记,该研究利用前期开发的2267个IT(intron targeting)标记,在‘中国春’、栽培大麦(Golden promise)和普通小麦(中国春)-栽培大麦(Betzes)的6个二体异附加系中进行扩增。结果发现:有534个标记可作为大麦染色体特异的IT分子标记,分别分布在大麦的1H(96个)、2H(84个)、3H(60个)、4H(105个)、5H(59个)、6H(80个)和7H(50个)染色体。进一步利用小麦族多基因组学网站和大麦参考基因组序列进行比对
该研究基于桑树转录组测序结果及基因组数据库,采用PCR技术,克隆获得桑树2C型蛋白磷酸酶基因MaPP2C8的cDNA及其启动子序列,运用生物信息学方法对序列进行分析,并采用qRT-PCR方法检测MaPP2C8在干旱胁迫处理下的表达特性,为进一步研究MaPP2C8基因在干旱胁迫响应中的功能奠定基础。结果显示:(1)MaPP2C8基因cDNA全长为1309 bp,开放阅读框(ORF)全长为1053 bp,编码350个氨基酸。(2)MaPP2C8蛋白与桑科其他植物亲缘关系较近,归属于PP2Cs家族中的A亚族。(
为探讨异源三倍体百合与龙牙百合(BB)的杂交亲和性,实现观赏百合与食用百合的种质融合与创新,该研究以三倍体百合Triumphator(LLO)作母本,龙牙百合为父本,采用常规授粉与切柱头授粉,利用基因组荧光原位杂交(GISH)技术分析母本及子代的基因组成。结果显示:(1)通过常规授粉和切柱头授粉共获得17个发育良好的果实,通过胚抢救共获得了40株幼苗,且常规授粉的出苗率明显比切柱头授粉的高。(2)对随机选取的8个子代进行GISH分析,所鉴定的后代均为非整倍体,染色体数目为26~32条,其中东方百合基因组(
以葡萄6个不同果形品种盛花期花序为材料,通过荧光定量PCR方法分析比较葡萄IQ67结构域(IQ67 domain,IQD)基因家族成员VvIQD10的表达;从椭圆形葡萄品种‘天山’中克隆出VvIQD10基因编码区序列,对其进行生物信息学分析,采用亚细胞定位瞬时表达载体转化烟草的方法研究VvIQD10蛋白在细胞中的分布情况,并通过酵母双杂交实验和双分子荧光互补试验进行蛋白互作研究。结果表明:(1)VvIQD10基因在长果形葡萄品种中的表达量高于近圆形葡萄品种。(2)VvIQD10基因开放阅读框长度为1401
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在冯·诺依曼架构陷入瓶颈的时代背景下,受生物神经启发而演化的人工突触器件获得了广泛关注,加速了人们迈向人工智能时代的脚步。本文通过在P型有机薄膜晶体管(OTFT)绝缘层SiO2表面进行等离子处理,探究了界面处理引入羟基对OTFT突触性能的影响。具体对绝缘层不同等离子处理时长的OTFT进行了突触行为的模拟和对比,包括兴奋性后突触后电流(EPSC)、双脉冲易化(PPF)、长程可塑性(LTP)等。突触特性的产生是由于等离子处理给半导体层/绝缘层界面引入的羟基对电子进行了捕获。而随着等离子处理时间的增加,绝缘层表