【摘 要】
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本工作首先采用化学刻蚀法制备出各种特征的多孔硅，然后通过扫描电镜（ＳＥＭ）技术，对多孔硅的表面形貌进行了表征，并分析了多孔硅表面微结构的形成过程
In this work, porous silicon w
【机 构】
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厦门大学化学系!福建厦门361005,厦门大学化学系!福建厦门361005,厦门大学材料科学系固体表面物理化学国家重点实验室!建厦门361005,厦门大学分析测试中心!福建厦门361005
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本工作首先采用化学刻蚀法制备出各种特征的多孔硅，然后通过扫描电镜（ＳＥＭ）技术，对多孔硅的表面形貌进行了表征，并分析了多孔硅表面微结构的形成过程
In this work, porous silicon with various features was first prepared by chemical etching, then the surface morphology of porous silicon was characterized by scanning electron microscopy (SEM), and the formation process of porous silicon surface microstructure was analyzed
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