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ALD growth of ultra-thin Co layers on the topological insulator Sb2Te3

来源 :纳米研究（英文版） | 被引量 : 0次 | 上传用户：maowang300miao

【作 者】

：

EmanueleLongo，RobertoMantovan，RaimondoCecchini，MichaelD.Overbeek，MassimoLongo，GiovannaTrevisi，LauraLazzarini，GraziellaTallarida，MarcoFanciulli，CharlesH.Winter，ClaudiaWiemer 

【出 处】

：

纳米研究（英文版）

【发表日期】

：

2020年2期

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