三氧化钨薄膜表面分子结构空间形态的AFM研究

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【摘要】

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详细介绍了一种高精度原子力显微镜AFM.IPC-208B的结构与性能以及三氧化钨溶胶-凝胶掺铂薄膜和三氧化钨磁控离子溅射掺铂薄膜的制备。利用AFM.IPC-208B研究了2种三氧化钨晶化

【作者】

：

韩贤武苏小平杨学恒刘安平徐艳

【机构】

：

重庆大学机械传动国家重点实验室,重庆大学数理学院

【出处】

：

材料导报

【发表日期】

：

2007年F11期

【关键词】

：

AFM 三氧化钨晶化薄膜 X射线衍射谱分子结构 atomic force microscopy tungsten trioxide crystal film

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详细介绍了一种高精度原子力显微镜AFM.IPC-208B的结构与性能以及三氧化钨溶胶-凝胶掺铂薄膜和三氧化钨磁控离子溅射掺铂薄膜的制备。利用AFM.IPC-208B研究了2种三氧化钨晶化薄膜表面的分子结构，并对其X射线衍射谱进行了分析。结果发现，磁控溅射三氧化钨掺铂复合薄膜在400℃下晶化，（106）面为其自然生长面，自然生长面上含有3个钨离子，7个氧离子（或2个钨离子，8个氧离子），分别位于4个相连的四边形的顶点，晶格常数为0.35±0.05nm，1.35±0.05nm；三氧化钨溶胶

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