Si含量对TiAlSiN纳米复合涂层的微观结构和力学性能的影响

来源 :上海有色金属 | 被引量 : 0次 | 上传用户：bencui

【摘要】

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采用不同Si含量的TiAlSi复合靶,在Si基底片上用射频磁控溅射工艺沉积了TiAlSiN纳米复合涂层,采用X射线衍射仪（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）和纳米压痕技术研究了Si含量对Ti

【作者】

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李伟赵永生刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华王贝贝

【机构】

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上海理工大学材料科学与工程学院

【出处】

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上海有色金属

【发表日期】

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2014年2期

【关键词】

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TiAlSiN纳米复合涂层 SI含量微观结构力学性能 TiA1SiN nanocompositecoating Si content microstru

【基金项目】

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上海市自然科学基金项目（11ZRl424600）,上海市教委重点学科项目（J50503）

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采用不同Si含量的TiAlSi复合靶,在Si基底片上用射频磁控溅射工艺沉积了TiAlSiN纳米复合涂层,采用X射线衍射仪（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）和纳米压痕技术研究了Si含量对TiAlSiN涂层的微观结构和力学性能的影响.结果表明：TiAlSiN涂层内部形成了Si3N4界面相包裹TiAlN纳米等轴晶粒的纳米复合结构.随着Si含量的增加,TiAlSiN涂层的结晶程度先增加后降低,涂层内部的晶粒尺寸先减小后趋于平稳,涂层的力学性能先升高后降低.当Si与TiAl原子比为3∶22时获得的最高硬

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