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采用射频磁控溅射法分别在LaAlO3(LAO)(001)和SrTiO3(STO)(001)单晶基片上沉积了La1-xZnxMnO3(x=0.3,0.5,0.7)系列薄膜。通过X射线衍射,原子力显微镜,X射线光电子能谱和四探针法等分别研究了在基片LAO和基片STO上沉积的La1-xZnxMnO3薄膜的相结构、微形貌、表面化学态和磁电阻等性质。结果表明:薄膜在空气中900℃退火2h后,晶粒与基片之间形成了稳定的外延结构。La0.5Zn0.5MnO3和La0.7Zn0.3MnO3薄膜的晶粒生长良好。在温度为300K,磁场为1.5T的条件下,在LAO上沉积的La0.5Zn0.5MnO3薄膜和在STO上沉积的La0.7Zn0.3MnO3薄膜的巨磁电阻变化分别高达25%和28%。