用CF4等离子体改善PTMSP膜片表面渗气性

来源 :等离子体应用技术快报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiaolingzijiangsu

【出处】

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等离子体应用技术快报

【发表日期】

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1994年11期

【关键词】

：

氟化碳等离子体 PTMSP 膜渗气性

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