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采用脉冲激光沉积方法，通过改变脉冲激光能量在单晶硅衬底上制备了类金刚石薄膜，利用椭圆偏振光谱和拉曼光谱对得到的薄膜进行测试，并对沉积过程中的碳等离子体发射光谱进行了研究。薄膜测试结果表明，随着脉冲激光能量的增大，薄膜sp^3成分增多。沉积过程中的碳等离子体发射光谱原位监测表明，随着脉冲激光能量的增大，C、C^＋、C^2＋粒子发射光谱强度增强，根据应力模型薄膜sp^3成分增多，与薄膜测试结果一致。并且发现C^＋粒子在形成sp^3键过程中起到了非常重要的作用。