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用慢正电子探针分别检测了Ｐ＾注入和Ｐ２＾＋注入Ｓｉ（１００）的两组样品，与基底样品相比较，注入样品中的缺陷导致了正电子湮没参数的显著变化。由湮没线形参数的变化拟合了两组样品注入损伤的深度分布，陷对正电子的捕获系数，讨论了Ｐ＾＋和Ｐ２＾＋注入损伤缺陷的差别和它们在退火过程中的不同行为。
慢正电子探针研究离子注入硅（100）产生的缺陷及其退火行火
【摘 要】
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用慢正电子探针分别检测了Ｐ＾注入和Ｐ２＾＋注入Ｓｉ（１００）的两组样品，与基底样品相比较，注入样品中的缺陷导致了正电子湮没参数的显著变化。由湮没线形参数的变化拟合了两组样品注入损伤的深度分布
【机 构】
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中国科学技术大学,中国科学院上海冶金研究所,中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,中国科学院国际材料物理中心
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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1994年6期
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