【摘 要】
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【正】 集成电路的生产技术的发展日新月异,迅猛异常。 美国已制定出振兴半导体工业的技术发展计划。2000年的目标是开发成功0.12μm技术,生产出IG SRAM样品。 为了适应这种
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【正】 集成电路的生产技术的发展日新月异,迅猛异常。 美国已制定出振兴半导体工业的技术发展计划。2000年的目标是开发成功0.12μm技术,生产出IG SRAM样品。 为了适应这种形势飞速发展的需要,如何确定洁净室的洁净级别将是我们所关心的问题之一。 有关集成电路存储器的部分技术数据列如表1。 从集成电路发展趋势来看 1.线宽越来越小,这就意味着被控制的粒子直径要求越来越小。被控制粒子直径一般按线宽的1/10考虑。
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