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通过对提拉法生长非掺杂YAG晶体应力双折射的产生原因以及小面生长的成因分析,采用调整温场的温度梯度,同时在生长过程中调整工艺参数,并采用适当的退火程序,有效减小了提拉法生长非掺杂YAG晶体的应力双折射.
提拉法生长非掺杂YAG晶体应力双折射的减小
【摘 要】
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通过对提拉法生长非掺杂YAG晶体应力双折射的产生原因以及小面生长的成因分析,采用调整温场的温度梯度,同时在生长过程中调整工艺参数,并采用适当的退火程序,有效减小了提拉
【机 构】
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北京奥依特科技有限责任公司
【出 处】
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激光与红外
【发表日期】
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2003年5期
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