【摘 要】
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本文介绍了用测试结构做的Ａｌ－Ｓｉ（１％）互连线的电迁移加速寿命试验。加速温度为１７５℃，电流密度为１－３×１０６Ａ／ｃｍ２。观察到线条的不同几何因素（长、宽、厚），不同的溅射工艺和钝化层，以及氧化层台阶都对电迁移寿
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本文介绍了用测试结构做的Ａｌ－Ｓｉ（１％）互连线的电迁移加速寿命试验。加速温度为１７５℃，电流密度为１－３×１０６Ａ／ｃｍ２。观察到线条的不同几何因素（长、宽、厚），不同的溅射工艺和钝化层，以及氧化层台阶都对电迁移寿命有显著的影响。对实验结果作了初步的分析和讨论。
This article describes the electromigration accelerated life test of Al-Si (1%) interconnects made with test structures. The acceleration temperature was 175 ° C and the current density was 1-3 × 10 6 A / cm 2. Different geometric factors (length, width, thickness) of the lines, different sputtering processes and passivation layers, and oxide steps were observed to have a significant effect on the electromigration lifetime. The experimental results made a preliminary analysis and discussion.
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