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采用高压点火的方式触发脉冲阴极弧放电，在Si（100）衬底上制备出较为光滑、均匀、致密的碳氮薄膜．研究发现在不同的放电电压与距离对薄膜的沉积起到了很重要的作用．扫描电镜及电子能谱分析表明，薄膜为非晶碳氮薄膜，并且随沉积能量的增大，氮的含量有所增大．放电溅射过程分析与实验结果相吻合．
脉冲阴极弧放电制备碳氮薄膜及其分析
【摘 要】
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采用高压点火的方式触发脉冲阴极弧放电，在Si（100）衬底上制备出较为光滑、均匀、致密的碳氮薄膜．研究发现在不同的放电电压与距离对薄膜的沉积起到了很重要的作用．扫描电镜及电子
【机 构】
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东华大学理学院
【出 处】
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物理实验
【发表日期】
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2009年4期
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