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本文是法国 Ａｌｃａｔｅｌ公司 Ｐ·Ｄｕｖａｌ博士于 １９８４年来华时在技术交流座谈会上的报告文稿。文章以人、机安全，排气设备的选择为主题较详细地叙述了在等离子刻蚀过程中所遇到的有关问题，文后并附有数十张图表。今摘译其中Ⅳ、Ⅴ、Ⅵ三个部份供参考。
用于半导体等离子刻蚀的真空排气系统
【摘 要】
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本文是法国 Ａｌｃａｔｅｌ公司 Ｐ·Ｄｕｖａｌ博士于 １９８４年来华时在技术交流座谈会上的报告文稿。文章以人、机安全，排气设备的选择为主题较详细地叙述了在等离子刻蚀过程中所遇到的有关问题，文后并附有数
【出 处】
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真空
【发表日期】
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1987年04期
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