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研究制备了SiO2-PVDF阳、阴离子交换膜,并确定了最佳的制备条件：聚偏氟乙烯（PVDF）的添加量与单体甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）和交联剂二乙烯苯（DVB）总量比为2∶1,纳米二氧化硅添加量为0.10%,对阳、阴离子交换膜而言,DVB添加量分别为GMA的4%和5%。将制备的SiO2-PVDF阳、阴离子交换膜利用热压成型法制得SiO2-PVDF双极膜。最佳的热压温度为190℃,最佳的热压压力为10 MPa。