【摘 要】
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以双子表面活性剂[C14H29 N+(CH3)2-(CH2)2-(CH3)2N+C14H29]2Br-为模板合成了立方结构的介孔二氧化硅,并且用小角X-射线衍射和N2吸附-脱附技术对样品进行了表征.结果表明,所
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以双子表面活性剂[C14H29 N+(CH3)2-(CH2)2-(CH3)2N+C14H29]2Br-为模板合成了立方结构的介孔二氧化硅,并且用小角X-射线衍射和N2吸附-脱附技术对样品进行了表征.结果表明,所制备的介孔二氧化硅为立方结构,晶胞参数在8.78～9.15 nm之间;孔道的有序性随表面活性剂增大而增加;N2吸附-脱附等温线为第Ⅳ类型的等温线;在相对压力p/p0=0.25～0.35和p/p0=0.8～1.0的范围内出现两个H1型滞后环,分别是由介孔孔道和颗粒之间的空穴引起的;比表面积(BET)也随表面活性剂的增大而增大,最大可达954.48 m2·g-1,最可几孔径在2.233～2.825 nm范围内.
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